GB/T 19444-2004 硅片氧沉淀特性的测定-间隙氧含量减少法（英文版）北京翻译公司|北京市翻译|北京文心雕语翻译公司

标准编号	GB/T 19444-2004
标准名称	GB/T 19444-2004 硅片氧沉淀特性的测定-间隙氧含量减少法（英文版）
英文名称	Oxygen precipitation characterization of silicon wafers by measurement of interstitial oxygen reduction
发布日期	2004-02-05
实施日期	2004-07-01
全文页数	5
原版价格	10.00元
是否译文	是
译文报价	200.00元
译文格式	Word/PDF
目录简介	本标准规定了由测量硅片间隙氧含量的减少量来检验硅片氧沉淀特性的方法原理、取样规则、热处理程序、试验步骤、数据计算等内容。本标准用于定性比较两批或多批集成电路用硅片间隙氧沉淀特性。
关键字	GB/T 19444 English Code